看了光学膜厚仪的用户又看亅/p>
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美国光学膜厚?/strong>,广泛应用于各种薄膜、涂层光学常?n and k)和厚度的精确测量,设备分为在线和离线两种工作模式,操作便捷,几秒钟内即可完成测量和数据分析,USB 连接计算机控制;
薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术,我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度
应用9/strong>
半导体(光刻胶、氧化物和氮化物等)+/p>
液晶显示器(ITO Polyimide Cell gap),
法医鉴定、生物薄膜和材料:/p>
墨水、矿物、染料、化妆品:/p>
硬质涂层、减反射涂层、滤波涂层;
医药、医疗器件;
光学薄膜、TiO2 SiO2 Ta2O5
半导体化合物
功能薄膜(MEMS/MOEMS);
非晶硅、纳米晶硅、晶体硅:/p>
技术参数:
测量范围?0 nm to 50 m (Thickness only)
100 nm to 10 m (Thickness with n and k) :/p>
多层测量:Up to 4 layers:/p>
光点大小调节范围?.8 mm to 1 cm :/p>
薄膜厚度测量精度?#177;0.5%:/p>
厚度测重复性:0.1nm
样品台尺寸:200 mm 200 mm:/p>
主要特点9/strong>
*基片折射率和消光系数测量:/p>
*薄膜厚度测量,平均值和标准偏差分析:/p>
*薄膜折射率和消光系数测量:/p>
*适用于不用材质和厚度的薄膜、涂层和基片:/p>
*测试数据输出和加载;
*直接Patterned或特征机构的试样测试:/p>
*可用于实时在线薄膜厚度、折射率监测:/p>
*波长范围可选;
*系统配备强大的光学常数库和材料数据库,便于测试和数据分析:/p>
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