虚拟号将 180 秒后失效
使用微信扫码拨号
MPCVD主要用于合成石墨烯薄膜和各种碳纳米材料,有一个水平石英管式炉。一个催化剂衬底(通常是铜铝箔)放置在炉釋span>+/span>甲烷气体或乙炔气体从外部低流量和低压地注入,在催化剂的衬托上形成石墨烯薄膜、/span>
快速冷却对于形成高质量的石墨烯薄膜非常重要,快速冷却可以抑制碳过量的沉积在催化剂金属箔三/span> (如铜或镍箓/span>):/span>系统配备了快速冷却系统。管式炉向一侧滑?span>30mm到反应炉,加热的炉可以远离样品,从而快速冷却样品。通过非常简单的方式达到快速冷却的效果、/span>
联合日本科学与技术研究所'span>JST)开发,并且在多个国家注册了该项技术的**?/strong>
主要特点9/strong>
1)快速加热和制冷功能:/p>
2)管式炉滑动装置,可使得样品快速加热和冷却:/p>
3)特殊设计的测温传感器,可直接监测样品温度;
4)支持生长其他各种碳纳米材料(碳纳米管、碳纳米线等);
技术指标:
暂无数据