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小型台式无掩模光刻系绞/strong>
小型台式无掩模光刻系绞/strong>是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案、/span>
传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩模板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩模板的设计通常需要经常改变。无掩模光刻技术通过以软件设计电子掩模板 的方法,克服了这一问题。与通过物理掩模板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案、/span>
Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩模直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面
产品特点
Focus Lock自动对焦功能 Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率、/span> | 光学轮廓?/strong> Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z?*精度100 nm,方便快捷、/span> |
标记物自动识?/span> 点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置、/span> | 直写前预检?/span> 软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确、/span> |
简单的直写软件 MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行、/span> | Clewin 掩模图形设计软件 ? 可以读取多种图形设计文件(DXF CIF GDSII 等) ? 可以直接读取TIFF BMP 等图片格弎/span> ? 书写范围只由基片尺寸决定 |
产品参数
Microwriter ML3 | 基本垊/strong> | 增强垊/strong> | 旗舰垊/strong> |
**样品尺寸 | 1551557mm | 1551557mm | 23023015mm |
**直写面积 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 适用于SU-8 ?65+405nm双光源可选) |
直写分辨玆/span> | 1m | 1m and 5 m | 0.6m 1m 2m 5m |
直写速度 | 20mm2/min @ 1m | 20mm2/min @ 1m 120mm2/min @ 5m | 25mm2/min @ 0.6m 50mm2/min @ 1m 100mm2/min @ 2m 180mm2/min @ 5m |
对准显微镜镜夳/span> | x10 | x3 and x10 自动切换 | x3 x5 x10 x20 自动切换 |
多层套刻精度 | 1m | 1m | 0.5m |
*小栅格精?/span> | 200nm | 200nm | 100nm |
样品?小步镾/span> | 100nm | 100nm | 50nm |
光学轮廓Z分辨玆/span> | ?可升? | 300nm | 100nm |
样品表面自动对焦 | ?/span> | ?/span> | ?/span> |
灰度直写(255? | ?/span> | ?/span> | ?/span> |
自动晶片检查工其/span> | ?可升? | 月/span> | 月/span> |
温控样品腔室 | ?可升? | ?可升? | 月/span> |
气动减震光学平台 | ?可升? | ?可升? | 月/span> |
应用案例
直写分辨?.1m
直写分辨?.6m
微电极制夆/span>
光刻胶上的图 | Au电极(SEM(/span> | Au电极(SEM(/span> |
设计国/span> | 光刻胶上的图彡/span> | 放大图的显微结构 |
微结构制夆/span>
微流通道制备
暂无数据