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脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统 |
美国BlueWave公司是半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统,包括脉冲激光沉?PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉?HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是*理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管?D材料。Blue Wave还提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。此外,BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工、/span>
产品特点9/strong>
电抛光多空不锈钢超高真空腔体 可集成热蒸发源或溅射溏/span> 可旋转的耐氧化基片加热台 | 流量计或针阀精确控制气体流量 标准真空讠/span> 干泵与涡轮真空泵 可选配不锈钢快速进样室 | 可选配基片-靶材距离自动控制系统 可制备:金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格等、/span> |
产品特点 超高真空不锈钢腔佒/span> 电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成 独立衬底加热,可旋转 多量程气体流量控制器 标准气压讠/span> | 机械、分子、冷凝真空泵 可选不锈钢快速进样室 衬底和源距离可控 可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膛/span> |
产品特点 高温石英管反应器设计 温度范围:室温到1100ℂ/span> 多路气体精确控制 标准气压讠/span> 易于操作 | 可配机械泵实现低厊/span>TCVD 可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膛/span> 液体前驱体喷夳/span> 2英寸超大**温度均匀匹/span> |
产品特点9/strong> 水冷不锈钢超高真空腔 热丝易安装、更 4个不同量程气体控制器 标准气压讠/span> 衬底与热丝距离可调节 2英寸衬底加热、可旋转 **制备金刚石和石墨 |
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