应用

清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片、�/p>

清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片、�/p>

移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质、�/p>

清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石、�/p>

清洗半导体元件、印刷线路板、�/p>

清洗生物芯片、微流控芯片、�/p>

清洗沉积凝胶的基片、�/p>

高分子材料表面修饰、�/p>

牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌、�/p>

改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力、�/p>

功能

对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物 （如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等）进行超清洗、�/p>

改变某些材料表面的性能、�/p>

使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性、�/p>

清除金属材料表面的氧化层、�/p>

对被清洗物进行消毒、杀菌、�/p>

优点

清除表面有机污染物、�/p>

清洗快速、操作简便、使用和维护成本极低、�/p>

非破坏性、对被清洗物表面光洁度无损害、�/p>

绿色环保、不使用化学溶剂、无二次污染、�/p>

常温条件下清洗，被清洗物的温度变化微小、�/span>

能清洗各种几何形状、粗糙程度各异的表面、�/span>