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德Zeiss Sigma SEM 电子束直写仪
型号：Zeiss Sigma SEM
主要功能９/strong>
利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（*小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等前沿领域、/span>
技术指标：
肖特基热场发射电子源
加速电压：100V?0kV
放大倍率?2X?000?00X
SEM分辨率：1nm@30kV?.5nm (15kV)?.8nm?kV（/p>
电子束曝光：10nm?0kV（/p>
场拼接精度：<100nm
扫描频率?MHz
图形格式：GDSII
暂无数据
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移动?/p>
工商已核宝/p>
