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日本JEOL电子束光刻机JBX-3050MV
JBX-3050MV 是用于制?5nm?2nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统 ***的技术实现了高速、高精度和高可靠性 是基于加速电?0 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系?
产品规格９/strong>
拼接精度 |
?#177;3.8 nm |
套刻精度 |
?#177;7 nm |
产品特点９/span>
JBX-3050MV 是用于制?5nm?2nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统、/span>
***的技术实现了高速、高精度和高可靠性、/span>
是基于加速电?0 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系绞/span>
利用步进重复式曝光的优点，结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能，能支持下一代掩模版/中间掩模版（mask/reticle）图形制作所需要的多种补偿、/span>
暂无数据
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移动?/p>
工商已核宝/p>
