芬兰PICOSUN高级原子沉积朹�strong>P-300B Advanced ALD

技术参�?/strong>

。基片尺寸和类型 300mm晶圆10�?批次（标准间距）

�?00mm晶圆25+2�?批次（标准间距）

工艺温度�?0 - 500 ��C

基片传送选件：、�/strong>气动升降（手动加载）

。半自动装载，用线性装载器实现

�?2片晶圆盒式全自动装载，用真空批量Load lock实现

前驱体：。液态，固态，气态，臭氧溏�/p>

。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务

�?根独立源管线�?多加�?个前驱体溏�/span>

重量 ９�/strong>400 + 300 kg

尺寸９�/strong>(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm

选件 ９�/strong>PICOFLOW? 扩散增强，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务、�/span>

验收标准 ９�/strong>标准设备验收标准� Al2O3 工艺