Idonus基于高功率LED和高档微透镜阵列的基础上提出了一� GE MING性的紫外光照系统、�/p>

这个产品应用于光刻胶曝光工艺，适用多种基材。光照质量保证了高的同质性的临界尺寸和整个面上的侧壁角。实际上，由于使用了一种完全远心的光学，我们的设计提供�?*的稳定光照条件，即整个表面的高同质性的强度和低的发散角、�/p>

可以根据用户需求进行产品开发定制，可以极大缩短您的想法变成产品的时间、�/p>

LED BENEFITS优点

目前随着LED技术的发展，紫外LED表现出了比汞光源更大的优势、�/p>

� 长寿命LED，测试不需要耗材

� 不需要每天校准，即刻稳定光照

� 有限的发热，这降低了空气冷却费用

� 低功率消耖�/p>

� 光源仅仅在曝光时开启（不需要快门）

� 用户可以根据需求进行照射系统定制、�/p>

也可以按照用户旧机器的尺寸设计照射系统，以替代旧的机器上的汞灯照射系统、�/p>

TYPICAL PERFORMANCES典型参数

分辨� �?.5 ��m

光学功率 �?0 to 200 mW/cm2

曝光区域 �?0x50 to 300x300 mm2

光学辐照不均匀� � ��2%

ZUI大发散角(FWHM) �?#177;1.5��to 3��

波长 �?65 / 385 / 405 nm

光谱半宽� �?2 nm

设备尺寸 � 65x30x30 cm3

总功� �?0 to 1200 W

EXAMPLE SYSTEM SPECIFICATIONS系统规格举例 可能的曝光系统的不同配置如下表所示，系统可以根据您的需要设计、�/p>
System Type系统型号	A	B	C
Resolution [um] 分辨玆�/p>	2	1	1
Optical power [mW/cm2] 光学功率	42	152	165
Exposition area [mm2] 曝光面积	80x80	100x100	300x300
Optical irradiance inhomogeneity [%] 光照幅度不均匀�?/p>	��2	��2	��2
Max divergence angle [��] (Full Width Half Maximum) **发散角（半宽幅）	��2.5��	��1.5��	��1.5��
Wavelength [nm] 波长	405	365	385
Spectrum half width [nm] 光谱半宽幄�/p>	12	12	12
System size [cm] 系统尺寸	65x30x30	65x30x30	1100x60x60
Power consumption [W] 功耖�/p>	20	180	1200