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产品概述
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶?,半导体化合?AlGaAs InGaAs,CdTe CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石?,聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
该机大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶?,半导体化合?AlGaAs InGaAs,CdTe CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石?,聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
测量范围: 1 nm -20um(UVVis)?nm-150um(UVVisNIR)
波长范围: 200 nm -1000 nm(UVVis)
200nm-1700nm(UVVisNIR)
适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层 软件包含大量材料?超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy Tauc-Lorentz Cody-Lorentz EMA等;
蓝宝石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率,波长范围(200-1700nm)9/p>
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