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SilcoNert?2000??44?26??11?60）是非晶硅的化学保护屏障，其进一步官能化以提供可用的*惰性表面。通过应用化学气相沉积（CVD），SilcoNert?2000非常适用于硫化物，汞，氨或其他活性化合物的痕量级测试精度＇百万分之一）、/span>
特色与优劾/span>
?非视距工艺；所有孔和复杂的几何形状都能被涂屁/span>
?消除吸附和再测试
?获得更快的校凅/span>
?对结果充满信忂/span>
SilcoNert?2000 规格
薄膜材质：表面烃化的氢化非晶硄/span>
镀膜工艺：热化学气相沉积法(非等离子?
使用温度９/span>450C（惰性气体）＋/span>400C（氧化性气体）
基板要求:兼容?不锈钢合金，陶瓷，玻璃，钛及大多数特殊金屝/span>
尺寸:不超?8英寸(198厘米)
形状:不限，可镀任何复杂三维结构
标准厚度?00 - 500 nm
疏水性（接触角）９= 65
允许接触的pH ９/span>0 - 8
暂无数据
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