参考价栻/p>面议
型号
品牌
产地
美国样本
暂无看了美国AST SE200BM/300BM系列椭偏薄膜分析仪的用户又看亅/p>
虚拟号将 180 秒后失效
使用微信扫码拨号
产品简介:
SE椭偏仪系列薄膜分析产品来自美国AST公司,其可以实现薄膜厚度精准测量,同时可以实?2层的薄膜厚度测试,同样对于材料NK参数也可以实现准确测量,为人们针对薄膜进行分析提供了极大便利、/p>
特点9/strong>
易于安装
基于视窗结构的软件,很容易操佛/p>
先进的光学设计,以确保能发挥?*的系统性能
能够自动的以0.01度的分辨率改变入射角?/p>
高功率的DUV-VIS光源,能够应用在很宽的波段内
基于阵列设计的探测器系统,以确保快速测野/p>
*多可测量12层薄膜的厚度及折射率
能够用于实时或在线的监控光谱、厚度及折射率等参数
系统配备大量的光学常数数据及数据庒/p>
对于每个被测薄膜样品,用户可以利用先进的TFProbe3.0软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型(EMA)测量分析;
三种不同水平的用户控制模式:专家模式、系统服务模式及初级用户模式
灵活的专家模式可用于各种独特的设置和光学模型测试
健全的一键按?Turn-key)对于快速和日常的测量提供了很好的解决方桇/p>
用户可根据自己的喜好及操作习惯来配置参数的测野/p>
系统有着全自动的计算功能及初始化功能
无需外部的光学器件,系统从样品测量信号中,直接就可以对样品进行精确的校准
可精密的调节高度及倾斜?/p>
能够应用于测量不同厚度、不同类型的基片
各种方案及附件可用于诸如平面成像、测量波长扩展、焦斑测量等各种特殊的需汁/p>
2D?D的图形输出和友好的用户数据管理界面、/p>
系统配置9/strong>
型号:SE200BM-M300
探测器:阵列探测?/p>
光源:高功率的DUV-Vis-NIR复合光源
指示角度变化:手动调芁/p>
平台?#961;-配置的自动成僎/p>
软件:TFProbe 3.2版本的软仵/p>
计算机:Inter双核处理器?9”宽屏LCD显示?/p>
电源?10?40V AC/50-60Hz?A
保修:一年的整机及零备件保修
规格9/strong>
波长范围?50nm?000 nm
波长分辨玆 1nm
光斑尺寸?mm?mm可变
入射角范围:0?0?/p>
入射角变化分辨率? 间隔
样品尺寸?*直径?00mm
基板尺寸?多可?0毫米厙/p>
测量厚度范围*?nm?10m
测量时间:约1?位置
精确?:优?.25$/p>
重复性误?:小? ?
选项:
用于反射的光度测量或透射测量
用于测量小区域的微小光斑
用于改变入射角度的自动量角器
X-Y成像平台(X-Y模式,取?#961;-模式)
加热/致冷平台
样品垂直安装角度讠/p>
波长可扩展到远DUV或IR范围
扫描单色仪的配置
联合MSP的数字成像功能,可用于对样品的图像进行测野/p>
应用:
半导体制造(PR,Oxide Nitride..)
液晶显示(ITO,PR,Cell gap... ..
医学,生物薄膜及材料领域筈/p>
油墨,矿物学,颜料,调色剂等
医药,中间设夆/p>
光学涂层,TiO2 SiO2 Ta2O5... ..
半导体化合物
在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膛/p>
非晶体,纳米材料和结晶硅
应用实例:
主要应用于透光薄膜分析类领域: l玻璃镀膜领域(LowE、太阳能…) l半导体制造(PR,Oxide Nitride? l液晶显示(ITO,PR,Cell gap... l医学,生物薄膜及材料领域筈/span> l油墨,矿物学,颜料,调色剂等 l医药,中间设夆/span> l光学涂层,TiO2 SiO2 Ta2O5... .. l半导体化合物 l在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膛/span> l非晶体,纳米材料和结晶硅 |
请与我们联系以获得详尽的应用实例......
详情关注9span>北京燕京电子有限公司
暂无数据