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ETD-3000型离子溅射仪是依据二?/span>(DC)直流溅射原理设计而成的,*简单、可靠、经济的镀膜设备、/span>
适用于电镜实验室的扫描电子显微镜'span>SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作、/span>
1.配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;
2.溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获?*镀膜效果;
3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;
4.陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用:/span>
5.根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净、/span>
配置参数如下9/span>
2主机规格9span>L360mm*W300mm*H380mm
2靶(上部电极):金:直径9span>50mm,厚度:0.1mm
2真空样品室: 直径9span>160mm,高9/span>120mm
2溅射面积 50mm
2真空指示表: **真空度:4X10-2 mbar
2离子电流表: **电流9span>100mA
2定时器: *长时间:3600S
2微型真空气阀 可连?#966;3mm软管
2可通入气体 多种
2**电压-3000 DCV
2机械泵:2L/S
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