看了ME-Mapping光谱椭偏仪的用户又看亅/p>
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一、概?/span>
SE-Mapping 光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪,采用行业前沿创新技术,配置全自动Mapping测量模块,通过椭偏参数 透射/反射率等参数的测量,快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析、/span>
全基片椭偏绘制化测量解决方案:/strong>
支持产品设计以及功能模块定制化,一键绘制测量;
配置Mapping模块,全基片自定义多点定位测量能力;
丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能劚/strong>
二、产品特炸/span>
采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范 (193-2500nm):/span>
高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集;
具备全基片自定义多点自动定位测量能力,提供全面膜厚检测分析报告;
数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料;
三、参数规栻/span>
四、产品应?/span>
广泛应用OLED,LED,光伏,集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征、/span>
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