参考价栻/p>面议
型号
G1000品牌
韫茂科技产地
福建样本
暂无全容积(m³):
/能耗:
/处理量:
1-100Kg物料类型9/p>粉状
工作原理9/p>其他
看了公斤级粉体原子层沉积镀膜系统的用户又看亅/p>
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原子层沉积(Atomic layer deposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术,具有自限性和自饱和。原子层沉积技术主要应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜?nbsp;
产品描述
厦门韫茂科技公司的GM系列自动粉末原子层沉积设备它可以在微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积或分子层沉积生长+/span>GM1000的反应室可自动运行ALD(原子层沉?或MLD(分子层沉?+/span>设备配有独立控制?00℃完整加热反应腔室系统,保证工艺温度均匀。该系统具有**粉末样品桶、动态粉末流化机构、全自动温度控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制,以及现场RGA、QCM、臭氧发生器、手套箱等设计选项。是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料研究与应用?*研发工具、/span>
主要技术参?/span>
G100 Powder ALD 技术参 Technical Specifications (ZrO2, LiNbO3, Al2O3, LPT, LiS等制备) | |
样品**装载 Capacity | 100g(可根据需求定? 也可放置3D基体及多片平牆/td> |
样品反应温度 Heating | RT-300ℂ/td> |
前驱 Max Precursor | **可包?组反应气 8组液态或固态反应前驱体, Max 2 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors |
前驱体加?*温度 Max Precursor Heating | RT-200ℂ/td> |
包覆均一 Uniformity | <3% |
成膜速率 Deposition Rate | 1-2A/Cycle (Al2O3) |
臭氧发生器Ozone Generator | 可选配,生产效?5g/h |
人机界面 HMI | 全自动化人机操作界面 |
安全Safety | 工业标准安全互锁Industry Safety Interlock,报警Alarm,EMO |
G1000 Powder ALD 技术参 Technical Specifications (ZrO2, LiNbO3, Al2O3, LPT, LiS等制备) | |
样品**装载 Capacity | 1000g(可根据需求定? 也可放置3D基体及多片平牆/td> |
样品反应温度 Heating | RT-300ℂ/td> |
前驱 Max Precursor | **可包?组反应气 8组液态或固态反应前驱体, Max 2 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors |
前驱体加?*温度 Max Precursor Heating | RT-300ℂ/td> |
包覆均一 Uniformity | <3% |
成膜速率 Deposition Rate | 1-2A/Cycle (Al2O3) |
臭氧发生器Ozone Generator | 可选配,生产效?5g/h |
人机界面 HMI | 全自动化人机操作界面 |
安全Safety | 工业标准安全互锁Industry Safety Interlock,报警Alarm,EMO |
可实现高精度纳米级薄膜包覆改性,专门为粉体材料研发制造,目前已广泛应用于锂电池正负极改?催化剂改?量子?荧光粉等领域