功率（kw）：
-重量（kg）：
30Kg规格外形（长*?高）９/p>550*400*400mm
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桌面式平片原子层沉积系统
原子层沉积（Atomic layer deposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地這/span>入反库/span>腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术，具有自限性和自饱和。原子层沉积技术主要应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜?nbsp;
产品描述
厦门韫茂科技公司研发的超小型桌式 ALD 原子层沉积设备是先进材料研究的有力设备之一，它可以?寸晶元（向下兼容）和微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积，具有广泛的应用领域，设各配有独立控制的300℃完整加热反应腔室系统，保证工艺温度均匀，该系统具有**粉末样品桶、晶元載盘，全自动温控制 ALD 前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制，以及现 RGA QCM 、臭氧发生器、手套箱等设计选项，是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料研究与应用?*研发工具
主要技术参?/span>
| Mini Desktop ALD 技术参 Technical Specifications （HfO2, ZnO, Al2O3, TiO2等制备） | |
| 特色 Feature | 结构紧凑，世界上极小尺寸的桌式ALD World Smallest Footprint Desktop ALD |
| 功能 Function | 高端制造，功能强大，操作简易，维护方便 |
| 样品**尺寸 | Ф100mm (其他尺寸可定制）硅片或几克粉?/td> |
| 样品反应温度 Heating | RT-450ℂ/td> |
| 前驱 Max Precursor | **?组液态或固态反应前驱体, Max 4 Liquid/Solid Precursors，可定制 Can Be Customized |
| 前驱体加?*温度 Max Precursor Heating | RT-200ℂ/span> |
| 包覆均一 Uniformity | <1% (Al2O3) |
| 成膜速率 Deposition Rate | 1A/Cycle (Al2O3) |
| 臭氧发生器Ozone Generator | 可选配，生产效?5g/h |
| 人机界面 HMI | 全自动化人机操作界面 |
| 安全Safety | 工业标准安全互锁Industry Safety Interlock，报警Alarm，EMO |
产品详情：桌面型原子层沉积系 小巧紧凑，功能强大，专为科研定制而生，科研工作者的ALD镀膜助手
桌面型原子层沉积系统的工作原理介绍？桌面型原子层沉积系统的使用方法？桌面型原子层沉积系统多少钱一台？桌面型原子层沉积系统使用的注意事顸/li>桌面型原子层沉积系统的说明书有吗＞/li>桌面型原子层沉积系统的操作规程有吗？桌面型原子层沉积系统的报价含票含运费吗？桌面型原子层沉积系统有现货吗＞/li>桌面型原子层沉积系统包安装吗＞/li>
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