参考价栻/p>面议
型号
101044品牌
先丰纳米产地
江苏样本
暂无制作方法9/p>.
质量标准9/p>.
纯度9/p>.
目数9/p>10 mmx10 mm
品级9/p>一?/span>
看了机械剥离氧化?硅基底二硫化钨的用户又看亅/p>
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货号 | CAS叶/td> | 编号 | 包装 | 参数 |
101044 | 7440-33-7 | XFG17 | 1 监/td> | 基底尺寸: 10 mmx10 mm |
产品名称
中文名称: 机械剥离氧化?硅基底二硫化?/span>
英文名称9/span>Mechanical exfoliation WS2 on SiO2/Si
性质
形态:薄膜
参数
基底:二氧化?硄/span>
氧化层:300nm
基底尺寸9/span>10 mmx10 mm
WS2面积?gt;10 μm2
应用
先丰纳米**推出机械剥离制备的二硫化钨,该类材料具有缺陷少,优异的光学性质,可以研究层数和荧光效应,此外,由于保持了原有晶格结构,所以该类材料是制备器件的理想材料、/span>
暂无数据
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