看了超高速分光干渉式膜厚仪的用户又看亅/p>
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以非接触方式测量晶圆等的研磨和抛光工艺,超高速、实时、高精度测量晶圆和树脁/p>
产品详细信息
特点
非接触式,非破坏性厚度测野/p>
反射光学系统(可从一侧接触测量)
高速(**5 kHz)实时评浊/p>
高稳定性(重复精度低于0.01%)
耐粗糙度弹/p>
可对应任意距禺/p>
支持多层结构??层)
内置NG数据消除功能
可进行距离(形状)测量(使用配件嵌入式传感器?
*通过测量测量范围内的光学距离
Point1:独有技?/p>
对应广范围的薄膜厚度并实现高波长分辨率、br/>采用大塚电子独有技术制成紧凑机身、br/>
Point2:高速对库/p>
即使是移动物体也可利用准确的间距测量+/span>
是工厂生产线的理想选择、/span>
Point3:各种表面条件的样品都可对应
?0微米的小斑点?/p>
各种表面条件的样品,都可进行厚度测量、/p>
Point4:各种环境都可对库/p>
因为*远可以从200 mm的位置进行测量,
所以可根据目的和用途构建测量环境、/p>
测定项目
厚度测量?层)
用逓/p>
各种厚膜的厚?/p>
式样
型号 | SF-3/200 | SF-3/300 | SF-3/1300 | SF-3/BB |
---|---|---|---|---|
测量厚度范围㎚/th> | 5?00 | 10?75 | 50?300 | 5?75 |
树脂厚度范围㎚/th> | 10?000 | 20?500 | 100?600 | 10?500 |
*小取样周期kHz(μsec(/th> | 5?00)? | - | ||
重复精度% | 0.01%以下? | |||
测量点径㎚/th> | 约?0以上? | |||
测量距离mm | 50.80.120?.200? | |||
光源 | 半导体光源(クラス3B相当) | |||
解析方法 | FFT解析?适化法? | |||
interface | LAN,I/O入输出端孏/td> | |||
电源 | DC24V式样(AC电源另行销售) | |||
尺寸mm | 123×128×224 | 检出器?20×200×300 光源?60×70×300 | ||
选配 | 各种距离测量探头,电源部(AC用),安全眼睚br/> 铝参考样品,测量光检出目标,光纤清理?/td> |
? 测量条件以及解析条件不同?小取样周期也不同、br/>? 是产品出货基准的保证值规格,是当初基准样品AirGap?00μm咋br/> ?000μm测量时的相对标准偏差 n = 20
? WD50mm探头式样时的设计倻br/>? 特別式样
? 薄膜测量时使
※CE取得品是SF-3/300、SF-3/1300
基本構成
測定侊/p>
贴合晶圆
Mapping结果
研削?00mm晶圆硅厚?/p>
暂无数据
Zeta电位・粒径・分子量测量系统ELSZneoELSZneo是ELSZseries的最高级机型,除了在稀薄溶液~浓厚溶液中进行zeta电位(ZetaPotential,?电位)和粒径测定之外,还胼/p>