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| 退火温度均匀性： | ±2.0ℂ/p> |
退火温度准确性： | ±2.0ℂ/p> |
| 降温速率９/td> | 30?s |
**升温速率９/td> | 50?s |
| 温度范围９/td> | 室温~1200ℂ/p> |
样品尺寸９/td> | 2英寸 |
| 产地类别９/td> | 进口 |
仪器种类９/td> | 高真空快速退火炉 |
| 价格区间９/td> | 10?30丆/p> |
快速热处理＇/span>RTP）已经成为半导体、铁电体以及镀膜行业的重要退火技术。但是目前，只有大型的、昂贵的生产设备才能完成快速热处理，这大大降低了研发工作的效率（尤其是小的样品）。为了满足市场的需求，ADVANCE RIKO研发出MILA-5000系列的小型快速退火炉。此系列的设备包含红外金面反射炉和高精度的温度控制器。根据需求选配相应的泵和气体接口，MILA能提供与大型RTP设备相同的热处理性能、/span>
特点９/span>
l快速加热及冷却能力：/span>
l可在任意气氛中使用；
l实时观测试样：/span>
l精确的温度控制；
型号 |
MILA-5000Series |
温度范围９/span> |
室温~1200ℂ/span> |
加热功率９/span> |
50?s?0~1200℃）真空 45?s?0~1200℃）氮气氛围 |
温度均匀性： |
±2.0℃（ΔT=4℃）1200℃真穹/span> ±4.5℃（ΔT=9℃）1200℃氮气氛図/span> |
加热气氛: |
大气、真空、惰性气氛环境下 |
试样尺寸: |
MAX?0 square or φ 50 x T5 (mm) |
程序模组９/span> |
温度VS时间设定、Step?56、Program?2（Max）； PID+Fuzzy控制、自动微调、USB通讯、自?手动切换：/span> |
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移动?/p>
工商已核宝/p>
