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红外金面反射炉应用于科研和生产当中,RHL-P系列红外金面反射炉具备加热速度快,温度范围宽等特点、/span>
应用9/span>
硅、半导体复合材料的快速退火;
可用作玻璃和陶瓷材料的退火炉:/span>
可用作金属退火炉:/span>
复合材料的耐热性评价炉:/span>
高温膨胀/收缩测试炉;
特点9/span>
抛物型反射面可以使平行的红外灯管提供一个更均匀的加热区域;
仪器参数9/span>
型号 |
RHL-P410C |
RHL-P65C |
RHL-P68C |
RHL-P610C |
RHL-P616C |
RHL-P810C |
温度范围 |
RT to 1350 °C |
RT to 1200 °C |
RT to 1200 °C |
RT to 1200 °C |
RT to 1200 °C |
RT to 1100 °C |
加热腔尺寷/span> |
φ 20 mm x |
φ 40 mm x |
φ 40 mm x 60 mm |
Φ40 mm x |
Φ40 mm x |
Φ50 mm x |
应用 |
该反射炉需配备水冷系统:/span> 温度变化会根据样品材料和加热腔的大小不同:/span> 加热区域是一个参考值; |
抛物型反射面可以使平行的红外灯管提供一个更均匀的加热区