镜面金浆管线式高剪切研磨分散机，银浆的制备方法，高速研磨分散机，高剪切研磨分散机，管线式研磨分散机，德国进口研磨分散机，升级版胶体磨，改进型胶体磨

IKN研磨分散机设计独特，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整、�/span>

镜面金浆的制备方法，包括步骤1、在一定厚度的PET薄膜上涂布一层干膜厚度不低于1um的离型涂料；步骤2、通过PVD法或者离子溅射法在薄膜涂层上镀上一层纯度≥99％的铜，形成镀铜膜，膜厚在之间；步�?、将镀铜膜浸入一定质量的溶剂中，离型涂层被溶解后，镀铜层则从薄膜上脱落下来，分散在溶剂中；步�?、将铜膜悬浮液进行浓缩，得到固含量不低于50％的铜膏。本发明直接制得金色金属颜料层，可以**限度的兼顾色彩和铝银浆的光亮�?镜面效果)，使客户使用方便，省去调色环节，也可以降低部分成本，用该工艺制备的镜面金浆具有明艳的金色效果、�/span>

高速研磨分散机＋�/span>研磨分散机是一款集研磨和分散一体化的设备，是一项新的技术革新。研磨分散机是将胶体磨（锥体磨）+高剪切分散机一体化的设备，先研磨后分散，物料研磨后又瞬间进行分散，避免了物料的二次团聚、�/span>

1、超强的剪切力，CMD2000系列研磨分散机转速高辽�/span>14000rpm，线速度丹�/span>44m/s，是普通设备的4-5倍、�/span>

2、高精密度的定转子，超细研磨分散机的定转子分为两级，一级为胶体磨磨头，采用三级错齿结构，磨头的沟槽的深度角度都符合流体力学的设计。第二级是分散头＋�/span>IKN分散头有六种不同的规格，从粗到细，越来越密，分散效果佳、�/span>

3、机械密封，超细的效果取决于高的转速，而转速越高机械密封的发热量就会越大，设备的机械密封是否能够耐的住这么高的转速，国内大多数厂家的机械密封是无法做到的，耋�/span>IKN研磨分散机采用德国博格曼双端面机械密封，并配有机封冷却系统，可以承受超高的转速，稳定性高、�/span>

高速研磨分散机CMD2000系列研磨分散设备�?/span>IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供亅�/span>2P＋�/span>2G＋�/span>4M＋�/span>6F＋�/span>8SF等五种乳化头供客户选择（�/span>

研磨分散朹�/span>的优势：

更稳宙�/span>采用优化设计理念，将先进的技术与创新的思维有效融合，并体现在具体的设备结构设计中，为设备稳定运行提供了保证.

新结枃�/span>通过梳齿状定子切割破碎，缝隙疏密决定细度大小，超高线速度的吸料式叶轮提供超强切割劚�/p>

更可靟�/span>采用整体式机械密封，**程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题，安装与更换方便快捷.

新技�?/span>采用国际先进的受控切割技术，将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内，满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.

CMD2000系列研磨分散机设备选型�?/span>

型号	流量 L/H	转逞�/span> rpm	线速度 m/s	功率 kw	�?出口连接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到**允许量的10%