均匀分散不沉陌�/span>纳米氧化铝水性浆料研磨机，氧化铝水性浆料纳米研磨分散机,氧化铝水性浆料超细研磨分散机,氧化铝浆料研磨分散机

IKN研磨分散具有设计紧凑、实用新型，外形美观、密封良好、性能稳定、操作方便、装修简单、经久耐用、适应范围广、生产效益高等特点、是处理精细物料*理想的加工设备、�/span>

氧化铝的核心应用

氧化铝具有硬度高、化学稳定性好等优点，已被广泛应用在陶瓷、无机膜、研磨抛光材料等领域。用作分析试剂、有机溶剂的脱水、吸附剂、催化剂、冶炼铝的原料、耐火材料、�/span>

氧化铝的分散问题

近年来，已将超细氧化铝粉体研制功能陶瓷材料和新型功能复合材料受到人们的广泛关注。但超细氧化铝粉体比表面积大，表面活性高，单个超细颗粒往往处于不稳定状态，颗粒之间因为相互吸引而团聚，易于失去超细粉体特有的性能，因此超细氧化铝粉体的分散，是超细氧化铝粉体走向实用化的关键、�/span>

在水溶液中，氧化铝浆料中的亚微米机微粒由于受静电引力等作用发生团聚，出现絮凝，分层等现象，破坏浆料的分散稳定性。为此浆料的分散稳定性成为人们研究的重点。影响稳定性的因素有很多，如：分散剂种类及用量、分散设备的选择、粉体的粒度及表面性质�?/span>PH值、温度等、�/span>

当物料工艺确定后，影响分散稳定性的**因素就是浆料中粒子的半径，半径越小，沉降越慢、稳定性越高。这种情况下要提高分散稳定性就必须选用高品质的分散设备，来获得更好的物料粒径，提高分散的均匀性，推荐CMSD2000系列研磨分散机，独特的结构，胶体�?/span>+分散机一体化设备＋�/span>14000rpm超高转速，效果好、效率高、�/span>

氧化铝水性浆料分散设备推荏�/span>

结合多家化工企业案例，我司推荏�/span>CMSD2000系列研磨式超高速分散机进行氧化铝的研磨和分散，一般可获得超细的物料粒径，一般为1μm左右。当然还要看具体的物料工艺，以及原始状态、�/span>

从设备角度来分析，影响研磨分散机效果因素有以下几点：

1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好（�/span>

3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好（�/span>

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率、�/span>

剪切速率(s-1) = v速率(m/s)
g宙�/span>-转子间距(m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子间距、�/span>
IKN宙�/span>-转子的间距范围为0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X转逞�/span>RPM / 60

所以转速和分散头结构是影响分散的一�?/span>zui重要因素，超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要皃�/span>

CMD2000系列研磨分散机设备选型�?/span>

型号	流量 L/H	转逞�/span> rpm	线速度 m/s	功率 kw	�?/span>/出口连接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量皃�/span>10%