磁控溅射镀膜设夆/h3>
磁控溅射镀膜设备主要是使用直流(或中频)磁控溅射,可适应广泛镀膜靶材,如:铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料,可以利用溅射工艺进行镀膜,可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点、/p>
| 磁控溅射设备应用
磁控溅射设备参数
舱体尺寸?200×1500?400×1950?600×1950?800×1950 电源类型:直流磁控电源、中频磁控电源、高压离子轰击电溏/p> 圆柱靶:直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶 舱体结构:立式开?/p> 真空系统:滑阀?罗茨?扩散?维持泵(可选装:分子泵、深冷泵(/p> 气路系统?-4路MFC 极限真空?×10?pa(空载) 抽气时间:空载大气抽?×10?pa小于13分钟 旋转方式?轴?轴?轴公自转,变频无级调逞/p> 控制方式:全自动、触摸屏+PLC
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