硫酸钡研磨分散机，硫酸钡胶体磨，硫酸钡研磨机，硫酸钡溶液研磨分散机，研磨分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备，效果远远好于单台胶体磨处理的效果，研磨分散机是一台目�?*型的研磨分散设备

硫酸钡，适用于上、下消化道造影。无臭、无味粉末，密度4.25-4.5，分解温度＞1600℃。溶于热浓硫酸，几乎不溶于水、稀酸、醇。水悬浮溶液对石蕊试纸呈中性、�/span>

技术及价格请来电：贾小姏�/span>13795214885QQ９�/span>2294898886，公司有样机可供客户购前实验，欢迎广大客户来我司参观指导�?/span>

CMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力，可以处理高固含量有一定粘稠度物料＋�/span>CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质、�/span>

硫酸钡研磨分散机的特点：

�?nbsp; 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

�?nbsp; 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽、�/p>

�?nbsp; 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

�?nbsp; 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向、�/p>

�?nbsp; 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求、�br/>
硫酸钡研磨分散机，硫酸钡胶体磨，硫酸钡研磨机＋�/strong>上海依肯研磨分散机是处理药物混悬液的**设备�?/span>

从设备角度来分析，影响研磨分散机效果因素有以下几点：

1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好（�/span>

3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好（�/span>

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率、�/span>

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g �?转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距�?nbsp;
IKN �?转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转�?nbsp;RPM / 60

所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要皃�/span>

CMD2000系列研磨分散机设备选型�?/span>

型号	流量 L/H	转逞�/span> rpm	线速度 m/s	功率 kw	�?出口连接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量皃�/span>10%