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纳米二氧化硅的物理改性，主要是通过吸附、包覆等物理作用将改性剂吸引至纳米二氧化硅表面，改变其表面性质，以达到减少团聚、增加分散稳定性的目的、�/span>

纳米二氧化硅的物理改性剂主要有表面活性剂、金属氧化物和聚合物等、�/span>

采用物理法对纳米二氧化硅进行表面改性，能制备出各种包覆结构的材料，可满足不同应用需要。但由于其只通过范德华力、静电力等简单地吸附或包覆纳米二氧化硅粒子，有机相与无机相之间的作用力较弱，当体系的环境如温度、pH值、压力等条件改变时，可能会出现明显的相分离、�/span>

气相二氧化硅有效发挥作用的关键是确保其在树脂中获得适当的分散。分散设计越好，则有效性越好、�/span>

对树脂行业而言，气相二氧化硅的分散可以使用多种方法，例如碾磨，高速剪切，球磨，砂磨，超声波分散等等，其中前两种方法使用的更多。就主要的分散步骤而言也有两种，即所谓的一步法和两步法一步法是指将气相二氧化硅加入树脂中直接得到所需要的一定含量的产品，一步法的特点是生产工艺简单，比较适合大批量，产品单一的生产、�/span>

两步法是先将气相二氧化硅以较高的比例分散人树脂制成母料，然后再加入树脂稀释到一定的比例。两步法的特点是由于体系粘度较高，分散时剪切力较大，气相二氧化硅的分散较好，适合多品种生产、�img src="//www.znpla.com/img1/img/daily/2024/07/24/085340_695252_procont.jpg" title="085340_695252_procont.jpg" alt="微信图片_20240424133338.jpg"/>

从设备角度分析影响分散效果的因素９�/span>

1�?/span>分散机的结构。乳化机一般分为间歇式分散机和管线弎�/span>分散机，管线弎�/span>分散机乳化效果更好，物料可以充分分散，、�/span>IKN高剪分�/span>分散机采用的是管线式皃�/span>分散方式、�/span>

2�?/span>分散机的剪切速率。乳匕�/span>分散设备核心参数就是剪切速率，一般情况下，剪切速率越高，分散效果越好，当然也需要根据具体物料工艺来定；IKN分散机通过皮带加速，转速达9000rpm，是XX转速可辽�/span>21,000rpm、�/span>

3、处理时间。物料在腔体里面停留时间越长，相对应的分散效果越好，处理次数越多，一般来说分散效果越好、�/span>XX度。传绞�/span>分散机采用单层乳化头，加工粗糙，耋�/span>IKN纳米均质分散机采用三�?/span>分散头，间隙更小＋�/span>XX只能达到2910转，而如此低转速以及跟不上市场上对物料分散效果的高要求、�/span>IKNXX可达21000rpm，成功解决了市场需求、�/span>

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