石墨烯纳米硅复合研磨分散机，石墨烯复合材料研磨分散机，纳米硅研磨分散机，石墨烯复合浆料研磨分散机，德国进口高剪切研磨分散机，高转速研磨分散机，胶体磨升级款研磨机

IKN研磨分散机设计独特，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整、�/span>

石墨烯自身的间内跃迁及等离子体振荡带来的独特光学特性，用于红外光探测有着突出的优势。但也存在着明显的劣势：本征石墨烯自身由于光吸收率低、缺乏光增益机制，导致石墨烯探测器的光响应率较低；石墨烯自身的光生载流子寿命短，仅皮秒左右，导致光生载流子难以有效收集，也严重影响探测器的光响应率，石墨烯探测器的低响应率无法满足实际应用的需要。目前，通过对石墨烯进行量子点修饰、构� PN 结、分子或金属掺杂及尺寸量子化等方式打开石墨烯带隙、石墨烯与等离子体纳米结构结合、石墨烯与微腔或硅波导集成等多种方法，可以不同程度地提高石墨烯探测器的光响应率，以达到或接近实际应用的需要、�/span>

由于锂离子电池具有高容量、无记忆效应、快速可逆充放电、高库伦效率等优点，其已在便携式电子产品如手机、笔记本电脑、数码相机等中得到广泛应用。然而再近二十年来，人们再大容量锂离子二次电池的研究商进展缓慢。为满足对高容量锂离子二次电池的需求，开发高容量、低成本的新型电极材料具有很高的研究价值、�/span>

硅石一种理想的锂离子电池负极材料，其具有很高的理论储锂容量以及较低的储理点位。而在充放电过程中，硅极材料的体积效应使得该材料容易粉化，进入从集流体上剥落，从而导致容量迅速衰减。而且，硅基材料的较差的循环稳定性大大限制了其应�?/span>

石墨烯石油SP2杂化碳原子再二维平面以六角网格形式排列形成的准二维材料。因其柔性结构、高的纵横比、优异的导电性和化学稳定性、�/span>

上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换（我们提供了2P�?G�?M�?F�?SF等五种乳化头供客户选择�?nbsp;IKN研磨分散机可以高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可�?4000rpm，是目前普通设备转速的4-5倍、�/span>

CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品、�/span>

�?/span>yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向、�/span>

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因丹�/span>在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用、�/span>

CMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力，可以处理高固含量有一定粘稠度物料＋�/span>CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质、�/span>

研磨分散机的特点９�/span>

1�?/span>线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

2�?/span>定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽、�/span>

3�?/span>定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4�?/span>在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向、�/span>

5�?/span>高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求、�/span>

设备其它参数:

设备等级：化工级、卫甞�/span>I级、卫甞�/span>II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达�?/span>
电源选择９�/span>380V/50HZ�?/span>220V/60HZ�?/span>440V/50HZ
电机选配仵�/span>９�/span>PTC热保护、降噪型
研磨分散机材�?/span>９�/span>SUS304�?/span>SUS316L�?/span>SUS316Ti,氧化锆陶瓶�/span>
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小�?/span>
研磨分散机表面处琅�/span>：抛光、耐磨处理
进出口联结形弎�/span>：法兰、螺口、夹箌�/span>
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

从设备角度来分析，影响研磨分散机效果因素有以下几点：

1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好（�/span>

3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好（�/span>

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率、�/span>

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g �?转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距�?nbsp;
IKN �?转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转�?nbsp;RPM / 60

所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要皃�/span>

CMD2000系列研磨分散机设备选型�?/span>

型号	流量 L/H	转逞�/span> rpm	线速度 m/s	功率 kw	�?出口连接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量皃�/span>10%

工艺应用:

食品纤维类物料的湿法超细破碎与均�?/span>可溶�?/span>(或互溶物)固体和液体加速溶觢�/span>

动物和植物组织的超细破碎及浆化加�?/span>不相溶的囹�/span>-液相悬浮物超细混合分敢�/span>

不相溶的囹�/span>-液相悬浮物超细混合分敢�/span>纳米材料团聚物的强力解聚与超细分敢�/span>

IKN研磨分散机的应用领域９�/span>

1�?span style="font: 9px " new="" times="">精细化工、颜料、染料、涂料、油漆、塑料、树脂、热熔胶、阻燃剂、胶黏剂、整理剂、表面活性剂、均染剂防粘剂、消泡剂、光亮剂、橡胶助剂、塑料辅剂、染料助剂、絮凝剂、混凝剂、表面活性剂溶剂、硅油乳化、树脂乳化、炭墨分敢�/span>

2�?span style="font: 9px " new="" times="">石油化工、润滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性沥青、乳化沥青、催化剂、蜡乳化

3�?span style="font: 9px " new="" times="">农药化肥 、化肥、农药乳化、农药助剂、农药中间体、药乳油、杀虫剂、除草剂、种衣剂、杀菌剂、植物激素、尿素、复合肥、乳油湿性粉剁�/span>

4�?span style="font: 9px " new="" times="">生物医药、细胞浆化、血清疫苗、蛋白质分散剂、药乳膏、抗生素、糖衢�/span>

5�?span style="font: 9px " new="" times="">日用化工、护肤霜、护肤膏、洗涤剂、防腐剂、美发用品、牙膏、日用香粽�/span>

6�?span style="font: 9px " new="" times="">食品工业、食品添加剂、香精香料、果汁、果酱、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末

7�?span style="font: 9px " new="" times="">涂料油墨、内外墙涂料、乳胶漆、纳米涂料、建筑胶、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助剂釉、膨润土