粉底液高速剪切研磨分散机，粉底液研磨分散机，粉底液胶体磨，进口胶体磨，粉底液研磨设备，粉底液分散机，粉底液分散设备�?/span>

粉底液胶体磨使用皮带轮按�?�?的比例变速，转速可�?000rpm，通过变频调节后转�?*可达14000rpm，是普通国产胶体磨转速的3-4倍，立式分体式结构，运行平稳，符合卫生级标准、�/span>

粉底液胶体磨 采用了二级处理结构，**级采用了高剪切胶体磨的磨头模块，第二季采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块，第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子，定转子可配2P�?G�?M�?F�?SF，且定转子精密度都达到了国际**水平。保证粉底液在达到研磨细度的基础上，达到颗粒粒径分布范围小，乳液稳定性高的效果、�/span>

粉底液胶体磨运行原理９�/span>

粉底液胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的�?nbsp;向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后，从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的、�/span>

粉底液胶体磨的结构：

粉底液胶体磨是由锥体�?分散机组合而成的高科技产品、�/span>

**级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向、�/span>

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因�?nbsp;在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用、�/span>

粉底液胶体磨CMD2000系列的特点：

1�?nbsp;线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨2、定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽、�/span>

3、定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4、在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向、�/span>

5�?nbsp;高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求、�/span>

粉底液胶体磨 CMD2000系列设备选型�?/span>

型号	流量 L/H	转逞�/span> rpm	线速度 m/s	功率 kw	�?出口连接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150
	流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到**允许量的10%、�/span>

1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据、�/span>

2.处理量取决于物料的粘度，稠度�?终产品的要求、�/span>

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