软胶囊内容物胶体磨，软胶囊胶体磨,软胶囊研磨分散机,胶囊内容物胶体磨,改良型胶体磨,医药乳液胶体�?/span>,医药混悬液胶体磨

IKN此款医药改良型胶体磨不仅转速高辽�/span>14000rpm，并且在传统胶体磨的基础上加入了一组分散盘，先研磨后分散，物料粒径更细，更稳定�?/span>

软胶囊制剂多用于非水溶性、对光敏感、遇湿热不稳定、易氧化额挥发的药物、�/span>

它密封严密、用量精确、生物利用度高，药物的稳定性也得到提升，此外还有掩盖不良嗅味的作用。实验证明，口服制剂的生物利用度，以内容物为溶液的软胶囊**，混悬液次之，再次为含颗粒的硬胶囊，*差为片剂、�/span>

软胶囊胶体磨设备介绍９�/span>

近年来，超微粉碎技术逐渐应用到软胶囊领域，通过研究发现，药材经过超微化粉碎后，粉末粒径大小分布均匀，球性度和均质度明显改善，这些细粉较易混悬在水或者溶剂以及植物油当中，质量较为稳定。另外随着软胶囊行业的发展，对于胶囊的内容物的处理，出现的大量的设备，如：胶体磨、均质机、分散机等。这些设备通过对内容物的剪切，从内容物粒径更加细化，粉末分散更加均匀。而上海依肯应对这种情况，研发出了新的设备，改良性胶体磨，该胶体磨结合了高剪切胶体磨和高剪切分散机的特点，将二者一体，形成**的设备，我们也将它定义为‛�/span>研磨分散朹�/span>“�/span>、�/span>

CM2000系列改良型胶体磨，是上海IKN公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供亅�/span>2P＋�/span>2G＋�/span>4M＋�/span>6F＋�/span>8SF等五种乳化头供客户选择（�/span>

软胶囊胶体磨设备结构９�/span>

CM2000系列改良型胶体磨，是由胶体磨+分散机组合而成的高科技产品、�/span>

**级胶体磨由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向、�/span>

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因丹�/span>在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用、�/span>

CM2000系列软胶囊研磨分散机的特点：

⑟�/span>线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

①�/span>定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽、�/span>

②�/span>定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

③�/span>在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向、�/span>

④�/span>高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求、�/span>