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成都华宇东升微波设备有限公司
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产品简今/div>
微波等离子化学气相沉积（MPCVD）系?nbsp; —?nbsp;C垊/span> 一款先进的碟形腔体微波等离子体化学气相沉积设备，可应用于单晶金刚石和多晶金刚石薄膜、类金刚石薄膜的化学气相沉积以及材料表面处理、改性及掺杂等相关研究工作、/span> 微波输入采用下馈的方式，为腔体结构的优化提供了更大的空间、/span> 该设备可以在相对大面积的衬底上进行单晶和多晶金刚石生长，具备平面和非平面金刚矲span style="line-height: 24px; font-family: arial, helvetica, sans-serif;">（HDC（/span>的生长能力。其中，单晶金刚石沉积厚度上限不低于6mm，多晶金刚石沉积厚度上限不低亍/span>500μm、/span> |
性能特点９/span>
֍采用高效散热的样品台 ֍产品沉积速率快、沉积质量高 ֍稳定的微波输?/span> ֍**功率达到10kW ֍?/span>能先进，安全、可靠性强、重现性好 ֍多参数实时监测、多重联锁保护与报警 ֍为用户提供沉积工艺解决方桇/span> |
主要技术参数：
微波溏/span> |
6kW戕span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif;">10kW可选，2.45GHz |
| 反应腓/span> | 碟形反应腔，可承载微波功玆span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif;">?0kW |
反应腔打开方式 |
揭盖式或升降式，可逈/span> |
| 微波馈入方式 | 腔体下方 |
| 微波泄露 | ?mW/cm2 |
| 极限真空?/span> | ?×10-4Pa |
| 真空漏率 | ?×10-10Pa·L/s |
| 气体质量流量控制 | 标配5路，可定刵/span> |
| 工作气压 | 0.8kPa- 40kPa |
| 基板台类垊/span> | 水冷式基板台 |
| 标准衬底扗/span> | 65mm?5mm?5mm直径圆台面积稳定沉积 |
| 样品台升降功胼/span> | 有，可逈/span> |
| 样品台旋转功胼/span> | 有，可选；
|
| 非平面（球面）金刚石样品?/span> | 可逈/span> |
| 操作系统 | PLC控制系统 |
| 单次连续工作时间 | ?00h |
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