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15KW碟型?英寸单晶多晶生长直径的MPCVD设备?01?*7mm晶种
微波功率调节连续平缓,沉积温度可以连续稳定变化、/p>
沉积反应室的结构调整,沉积腔中产生大面积又稳定的等离子体球可以大面积均匀沉积、/p>
适应不同尺寸和形状的衬底,较高的灵活?通过调整工艺参数,如高硬度、高热导率、高透光性等、/p>
通过升级或扩展来实现更大规模的生?提高了设备的利用率和****率、/p>
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