CVD系列真空气氛管式炉广泛应用于胳、中、低温CVD工艺，例如；纳米粉体的转相、炭纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩散焊接以及真空或保护气氛下热处理� 采用高纯石英管或刚玉管作为内炉膛，可拆卸式的三面密封方式，具有良好的洁净度和真空度；耐火、保温材料全部采用先进的轻质纤维制品，整机质量轻、能耗低；加热元件采用U型硅铝（炭）棒或原装竟口电阴丝；温控系统采用进口多段智能程序温度控制仪控制，温度控制具有良好的稳定性、重复性，温度控制精度� **温度可达1650度，其他参数按照用户提出系列要求来设计� 注：本公司可根据用户要求提供各种非标设计制造，欢迎来电咨询�