主要特点９�/strong>该区域熔融炉设计为金属材料或半导体材料区域融化提纯使用，炉体加热区长�?00mm，高精度电机经过PLC控制以缓慢平稳的速度推进，行进速度可调�?*使用可达1100℃，设备采用双层风冷结构，壳体表面温度＜60℃，保温材料为超细氧化铝纤维，节能环保，温场均匀性良好、�/p>

立式结构设计，可使样品在区熔纯化过程中处于垂直状态。相较水平状态，可避免重力影响。有利于金属样品处理。该设备设计为双工位结构，炉体可垂直或者水平工作状态。两台区熔工位通过管道和真空系统相连、�/p>

技术参数：

1、加热方式：电阻加热和感应加�?/p>

2、电源电压：220V�?80V 50Hz

3、区熔速度�?0-100mm/h

4、区熔宽度：30-50mm

5、石英管长度�?000mm

6、移动距离：600mm

7、石英管外径�?0mm

8、加热温度区间：100-600ℂ�/p>

9、测温方式：热电偶（加热区、冷却区�?个热电偶（�/p>

10、真空系统：

�?）前级泵为双极旋片机械泵

�?）配备分子泵

�?）真空阀门，真空管道，结构合理，运行稳定、�/p>

�?）真空计采用电离、电阻复合真空计

极限真空度：1*10-3Pa（冷态，洁净，无坩埚保温层）

11、冷却区温度：≤ 30ℂ�/p>