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ITO平面靶材
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一、制备方法:无压烧结?nbsp;
Fabrication: Pressureless Sintering

  ITO靶材以磁控溅射等方式用于导电玻璃的制备。ITO膜具有导电性以及对可见光的透明性和对红外线的反射性三个特性,广泛用于显示屏、玻璃幕墙、太阳能电池、雷达屏蔽、冰柜、防雾玻璃等产品,尤以显示屏为大宗、br/>   ITO (indium tin oxide) target is used to make conductive glass with technologies such as magnetron sputtering. With such valuable properties as good electric conductivity, excellent transparency for visible light and high reflectivity for infrared ray, ITO film is widely used in display panels (major application), glass screens, solar cells, radar shields, freezer boxes, fog-proof windshields, among others.

三、技术指标:Specifications

性能 Properties

单位Unit

标准值Standard Value


化学成分

Chemical composition

wt%

In2O3:SnO2=90:10

Others are subject to the requirements of the customers


**规格Maximum Size

mm

1150×380×(6.0-10)


相对密度Relative Density

---

?9.8%


理论密度Theoretical density

g/cm3

7.156


体积电阻率Volume Resistivity

Ω·cm

1.6×10-4


抗弯强度Bending Strength

MPa

>150


纯度purity

---

?9.99%


失氧率Oxygen loss rate

---

?.5%


一?nbsp;ICP杂质检浊/span>

杂质元素

含量(ppm)

Si

12

Fe

1.5

Ca

<5.0

Na

2.0

Cu

1.1

Cd

<1.0

Pb

<1.0


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