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光学仪器及设夆/a>
测量/计量仪器
实验室服加/a>
光谱检测分析仪
测厚?/a>
辐射测量仪器
Semiconsoft MProbe Vis膜厚测试?/strong>
让你成为测量专家 ?/span>
大部分半透明的或具有轻微吸收性的薄膜能够被快速、可靠的测量:氧化物、氮化物、感光耐蚀膜、聚合物、半导体(Si aSi,polySi)、硬涂层(SiC DLC) 聚合物涂 (Paralene,PMMA,聚酰胺),薄金属薄膜筈/span>、/span>
MProbe系统
精度 |
0.01nm?.01% |
精确?/span> |
0.2% ?nm |
稳定?/span> |
0.02nm?.03% |
光斑尺寸 |
标准?mm 低至3m |
样本大小 |
? mm |
厚度范围: 15 nm-50 um
波长范围: 400nm -1100 nm
LCD FPD应用: ITO 细胞间隙,聚酰胺。光学涂屁 介质滤波器,硬涂层,防反射涂层半导体和电解质: 氧化物,氮化物, OLED堅/span>
实时测量和分析、/strong>各种多层次的 薄的,厚的,独立和不均匀层、/span>
丰富的材料库(500多种材料) 新材料容易增添。Cauchy Tauc-Lorentz Cody-Lorentz EMA 筈/p>
使用灵活:可联网在操作台桌面或现场进行研究与开发、/p>
用TCP或Modbus接口能容易的和外部系统连接、/span>
测量参数9/strong>厚度、光学常数、表面粗糙度、/p>
界面友好强大:测量和分析设置简单、/p>
实用的工具:仿真和灵敏度分析,背景和缩放修正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和生产批量处理、/span>
测量300 nm 硅氧化膜 测量与模型数据拟吇/span>
主要参数
从硅晶片原反射比。信?*?6位)、/p>
积分时间?0ms
光谱范围(nm) |
400-1100 |
刅span>光仪/检测器 |
分光仪F4,Si CCD 3600像素?6位ADC+/p> 范围360-1100 nm |
光谱分辨玆/span> |
<2 nm (标准) <1 nm (选项) |
光源 |
卤钨灯(Xe填充?W, CT 2800o 使用时间: 10000 hrs |
反射比探浊/span> |
光导纤维(7纤维束)+/p> 400m纤维?/span> |
精度 |
<0.01 nm?.01% |
准确?/span> |
<1nm?.2% |
重量 |
4 kg |
尺寸 |
8”x 10 x 4 (WxDxH) |
功率 |
100-250VAC 50/60 Hz 20W |
测量500nm AlN. 测量参数:厚度和表面粗糙度 换算系数应用到正确的距离以改变配置、/span>
选配硬件 |
|
-FLVis |
Vis消色差聚焦透镜. WD:35mm. 光板尺寸: <0.5mm. |
-LP500 |
长通滤片, 波长范围?00nm以下. 用于测量光阻材料。(其他滤器可用(/span> |
-FDHolder |
样品架朝?测量透明和柔韧的样本 |
-TO |
选配透射玆/span> |
-TO Switch |
2通道开关,结合测量反射率和透光? |
- 2oW |
更改?0W (CT 3100o 使用时间2000hrs)钨卤素灯. |
-HR |
升级光谱仪分辨率<1nm |
- TR |
在输?输出触发5V TTL?外部(输入) 触发器以开始测量,6输出触发?/span> |
软件选项 |
|
-MOD |
基于Modbus标准远程控制(TCP) |
- CM |
不同测量与指定数量的测量?或延连/span> |
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