编号：FTJS02409
篇名� 石墨�?壳聚糖修饰玻碳电极测定水样中痕量铜离�
作者： 方艳红； 连慧婷； 陈国华；
关键词：石墨烯； 壳聚糖； 阳极溶出伏安法； Cu2+�
机构：华侨大学材料科学与工程学院：�br>摘要� 采用控制电位电解�?在玻碳电�?GCE)上进行石墨烯(GN)/壳聚�?CS)修饰膜的电沉�?将制得的膜修饰电极GN/CS/GCE�?.1 mol.L-1的HAc-NaAc电解�?pH=4.2)�?0.5 V(vs.SCE)电位下富集Cu2+,并用差分脉冲溶出伏安法测�?结果表明,该膜修饰电极对Cu2+的富集作用明显强于裸GCE及CS/GCE.在优化实验条件下,Cu2+的浓度在1.0�?0.0μmol.L-1范围内与阳极溶出峰电流呈线性关�?相关系数�?.999 6,检出限�?2.66 nmol.L-1,所制得的修饰电极具有较高的灵敏度和选择�?