不同极?H-SiC表面石墨烯的制备及其电子结构的研穵/div>
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2011-08-17
编号:CPJS00855
篇名 不同极?H-SiC表面石墨烯的制备及其电子结构的研
作者: 康朝防 唐军; 李利氐 潘海斋 闫文盚 徐彭対 韦世弹 陈秀芲 徐现则
关键词:石墨? 6H-SiC; 同步辐射; 电子结构;
机构:中国科学技术大学国家同步辐射实验室; 山东大学晶体材料国家重点实验宣
摘要 在超高真空设备中,采用高温退火的方法?H-SiC两个极性面(0001)?0001-)?即Si面和C?外延石墨?EG).利用低能电子衍射(LEED)和同步辐射光电子能谱(SRPES)对样品的生长过程进行了原位研?而后利用激光拉曼光?Raman)和近边X射线吸收精细结构(XANES)等实验技术对制备的样品进行了表征.结果表明我们在两种极性面均制备出了质量较好的石墨烯样?而有关两种石墨烯的对比性研究发?Si面EG呈同一取向而C面EG呈各向异?Si面EG与衬底存在类似于金刚石C—sp3键的界面相互作用,受到衬底的影响较?而C面EG与衬底的相互作用较弱,受到衬底的影响较?