编号：NMJS03837
篇名� Cu箔衬底上石墨烯纳米结构制�
作者： 葛雯� 吕斌�
关键词：石墨烯； CVD� 石墨烯形貌；
机构：浙江大学材料科学与工程学系硅材料国家重点实验室：�br>摘要� 采用低压化学气相沉积�?LPCVD)在Cu箔上制备出了单层石墨烯纳米结�?用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微�?AFM)和拉曼光谱等对其结构和形貌等进行了表征。在此基础�?通过调节生长参数,制备多种形貌的石墨烯结构,着重探索了在生长温度为1000℃、生长时间为2min�?CH4∶H2、生长压强和衬底晶体取向对石墨烯初始形貌的影响规�?石墨烯的形貌主要取决于C的扩�?沉积和H2对石墨烯的刻蚀,当氢气的刻蚀作用占主导地位时,石墨烯为规则的六边形,当C的扩�?沉积占主导作用时,C沿着特定的方向扩散快,形成花状形貌;而背电子散射衍射(EBSD)研究表明,衬底Cu箔的取向对石墨烯形貌的影响不明显,没有观察到衬底取向与石墨烯结构之间的直接联系�