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Janis SHI-4系列4K制冷机种类齐全,可配置各种光学附件和电学接头,满足不同实验对样品冷却的要求。真空罩底部有螺纹孔,匹配安装法兰,可方便地将恒温器固定在任意方向。标准配置的制冷机系统高温可?25K,可选配高温?00K?00K、/span>
标准型号("X"表示制冷机的制冷功率)9/span>
SHI-4-X(光学)
SHI-4T-X(靝span>光学)
SHI-4S-X(超级紧凑)
SHI-4XG-X(低振?span>)
SHI-4H-X(高温)
标准配置 |
可选配?/span> |
●光学型真空罩和防热辐射屎/span> |
◎/span>BNC、SMA或多针电学接夳/span> |
◎/span>4个O-ring密封石英窖/span> |
增加第五个窗叢/span> |
镀金无氧铜OFHC样品扗/span> |
旋转真空?/span> |
抽真空阀和安全阀 |
旋转台和定位?/span> |
10针电学真空接夳/span> |
基质隔离结构 |
三个备用电学引入端口 |
防热辐射窖/span> |
硅二极管温度计和加热?/span> |
●红外或其他窗材 |
O-ring密封的真空外罩,方便装卸 |
紧凑型或其他定制型真空罩 |
非光学型结构 |
|
选配500K?00K高温 |
SHI-4-X制冷机技术参数(含辐射热负载):
技术参?/span> |
SHI-4-2 |
SHI-4-5 |
SHI-4 |
SHI-4-15 |
温度范围 |
<4.2K to 325K |
<4.5K to 325K |
<4K to 325K |
<4K to 325K |
初始降温时间 |
120mins to 5K |
90mins ?.5K |
60mins ?K |
60mins ?K |
冷头制冷功率 |
0.2W @ 4.2K |
0.5 W @ 4.2K |
1 W @ 4.2K |
1.5 W @ 4.2K |
恒温器质野/span> |
36lbs. |
53lbs. |
62lbs. |
63lbs. |
压缩机冷却方弎/span> |
风冷或水冶/span> |
水冷 |
风冷或水冶/span> |
风冷或水冶/span> |
*防热辐射屏上带四个开口(大多数型号可选配500K?00K高温系统(/span> |
标准配置皃/span>4K制冷朹/span>
SHI-4-2 SHI-4-4 SHI-4-5
SHI-4 SHI-4R SHI-4-15
其它结构
样品垂直/水平双向旋转的制冷机9/span>
Janis可提供沿垂直或水平方向旋转的样品托。沿恒温器轴向可进行360旋转,仅受氦气管线和电缆的限制,精度?.5;沿水平方向可进?#177;90旋转,精?0.2。系统配有四个冷窗,*低温度可达~4K,是需要对样品进行精确光学准直实验的理想选择、/span>
◎/span>SHI-4-15-UHV系统9/span>
图示为RDK-415D2B冶/span>头,配有固定?”CF法兰,二级冷台上装有温度传感器和两个筒状加热器。该系统为高真空环境而设计,可直接固定在用户提供的UHV腔上,但并非真正的UHV系统,其烘烤温度只能达到60℃、/span>
◎/span>特殊垊/span>SHI-4XG-15-UHV系统9/span>
SHI-4XG-15-UHV系统为真正的超高真空(UHV)系统,在交换气体减振的情况下可烘烤?00K,可用于扫描探针显微镜测试。该系统配有特殊的防热辐射冷窗,*低温度可?K、/span>
◎/span>特殊垊/span>1.5W制冷机系统用于冷却氢气:
SHI-4-15制冷机,配有CF法兰,一级冷台和二级冷台上分别装有热交换器用于冷却氢气。该系统将直接安装在用户已有的真空腔上,与氢气入口和出口管线相连、/span>
◎/span>高温垊/span>4K制冷机:
该系统高温可?00K,采用RDK-101D冷头、/p>
◎/span>带冷窗的4K制冷机:
配有光学冷窗的情况下,制冷功率为1.5W@4.2K的制冷机系统*低温度可?K、/span>
◎/span>SHI-4R-1基质隔离系统9/span>
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