一·设备用途：

1. 提纯金属、半导体、有机和无机的化学材料；

2. 区熔致匀（使一种欲掺入的杂质十分均匀地分布在整个单晶体中（�/p>

3. 焊接和测量液体中的扩散率等、�/p>

二·设备优点：

1·区熔加热炉采用往复区熔的方式，闭环温度控制，可靠的控制熔区的宽度问题；生长室的设计成功解决生长室的污染问题，

2·将加热及保温材料均设置在生长腔室外部，采用高纯石英作为腔室，同时抽真空；将流动高纯氢气通入腔室，去除腔室中的微量氧，解决氧化的问题：�/p>

3·开发高柔性的控制软件，采用触摸屏进行操作，任意设置区熔的温度，区熔的速度及次数、�/p>

三·主要技术参�?/p>

1.***加热温度�?100℃使用温度：500-1000ℂ�/p>

2.设备功率�?5Kw±10%三相380v 50Hz（三相五线制（�/p>

3.感应电源功率�?5Kw±10%三相380v 50Hz（三相五线制（�br/>4.冷态极限真空度� �?.7×10-4Pa

5·石墨舟尺寸：Ф70*200mm（内�?长度，半圆柱（�/p>

6·石英管（腔室）尺寸：�?00*1200（根据实际情况做调整（�/p>

7·加热方式：高频感应加�?/p>

9·区熔行程及速度：位移行程≦1000mm

慢速：1-10mm/h（伺服控制）精度0.01mm

快速：50-200mm/min（伺服控制）可根据客户需求设讠�/p>

10.炉内充气压力：≤0.03MPa（氩气）

11·充气系统� 自动充放氓�/p>

12.区熔温区�?温区

13.石英管法兰连接方式：真空水冷密封法兰形式，留KF25真空接口，法兰材�?04不锈钡�/p>

14.控制方式：触摸屏+plc