Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便、�/span>

特点

　　? 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）

　　? **设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚�?/span>

　　? 可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度�?.1nm

　　? 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过稊�/span>

　　? 触摸屏控制，简单方侾�/span>

　　? 真空度≤7��10 -3 mbar

　　? 溅射电流�?-150mA可调

　　? 方形样品�?*设计，样品仓尺寸�?40mm（宽�?#215;145mm（深�?#215;150mm（高（�/span>

　　? 工作距离调节范围�?0mm-100mm