本产品主要用于碳化硅晶片等的精磨抛光、/p>
(1)产品搭配专门的碳化硅精磨垫使用达到高去除率,提升效率:/p>
(2)精磨加工后的碳化硅晶片表面质量高(粗糙度,划伤,亚表面损伤层等参数):/p>
(3)水溶性载体配方,具有较好清洗性能:/p>
(4)产品的悬浮稳定性好:/p>
(5)产品相较于常规的水基配方,润滑性能更优、/p>