原子层沉积技�?/strong>

原子层沉积系绞�/strong>９�/span>原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供**的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上、�/p>

原子层沉积系绞�/strong>应用９�/span>

• 高介电薄膛�/p>

• 疏水涂层

• 钝化屁�/p>

• 深硅刻蚀铜互连阻挡层薄膜

• 微流控台阶涂屁�/p>

• 用于催化剂层的单金属涂层的燃料电江�/p>

ALD-4000原子层沉积系绞�/strong>特点９�/span>

• 独立皃�/span>PC计算机控制的ALD原子层沉积系绞�/span>

• Labview软件，具备四级密码控制的用户授权保护功能

• 安全互锁设计，强大的灵活性，可以用于沉积多种薄膜（如９�/span>AL2O3� AlN� TiN� ZrO2� LaO2� HfO2＋�/span>等等（�/span>

• 12“�/span>的铝质反应腔体，带有加热腔壁和气动升降顶盕�/span>

• *夙�/span>7�?/span>50ml的加热汽缸，用于前驱体以及反应物，同时带月�/span>N2或耄�/span>Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀

ALD-4000原子层沉积系绞�/strong>选配项：

• NLD-4000系统的选配项包含自�?/span>L/UL上下轼�/span>(用于6“�/span>基片)

• ICP离子溏�/span>(用于等离子增强的PEALD)

• 臭氧发生�?/span>

等等客户定制选项

案例�?”晶圆片上的均匀性数�?/span>