随着成像技术的发展，在中心实验室，越来越多的科研工作者们提出对超高分辨率成像的需求，为了应对不同应用对于分辨率、速度和图像质量的多种需求，X-Light V2+VCS转盘共聚焦可以在宽场荧光、共聚焦、宽场超高分辨率和视频级共聚焦超高分辨率多种模式之间快速电动切换。在您可承受的预算之内，即可满足超高分辨率成像的需求，同时配备各种自动化部件，高功率激光，大视场sCMOS相机，热切换转盘，任意转换不同针孔大小或排列转盘，双模式的结构照明网格，整套系统工作稳定，易于维护易操作、�/span>

结构照明超高分辨率模块随时可升级

�B独特的宽场超高分辨和视频级共聚焦超高分辨率（VCS ) 模式

�B在宽场模式和共聚焦模式下都可以实现超高分辨率成像，通过电动的VCS格栅的移动可以快速切换�?*的结构照明可以获得横向分辨率120nm的图片。结构照明透过独特针孔矩阵投影到样品焦平面上，然后以压电马达快速全像素点扫描，对每个像素点随之产生的光强度变化收集数据。检测方法利用非线性计算，收集和探测顶部的强照明的函数以及位置参数，更多的采用顶部原始强信号的位置而不是外围弱光的位置，产�?*的高对比度。对焦信息对于大多数弱光的位置未被VCS照明模式膜距阵照亮，从而产生更激烈的倾斜光亮度直方图，实现超分辨率信号、�/span>

**图像质量保障，沒有样品处理及荧光染料限制，快速超高分辨率采图

�B独特的结构照明技术可以应用于所有荧光染色样本，在样本制备和荧光染料选择上无特殊要求，对显微镜浸油和样本的封�?浸润介质的折射率匹配不敏感，可长时间观察，每个获取图像只是局部照明避免荧光漂白，*终采图只需激发光曝光整个视野仅仅一次，无惧光漂白，可以轻松的从共聚焦成像切换到多色超高分辨率成像，针对可见光全光谱的无像差光学校正系统保证您获�?真实的图僎�/p>

�B没有图像缺陷，图像超高质量保证，效果明显，保证产出和****

�B不会浪费珍贵样品，也没有浪费珍贵人力在困难的样品制备中，但到头来不能获得良好的图像质量和实验结果

�B高清晰度图像丰富细节找到你须要的所有信息使用在发表文章和演示，准确结构共定位判宙�/p>

�B高质量的图像发表高水平论斆�/p>

�B快速获得结果，所以速度更快发表论文

控制软件	MetaMorph� NIS Elements
VCS	搭配X-Light V2 使用，可后期升级
VCS 针孔	两种模式: 13微米方形孔径 - 78 微米步进�?3微米狭缝-78微米步进；压电马达速度结构照明扫描
	电动针孔聚焦，稳定的XY轴校凅�/span>
VCS 分辨玆�/span>	横向120nm ，纵�?00nm ; 精准的多波长色差校正，适应多色成像
支持的显微镜	配备100% C接口的各品牌正置和倒置显微镛�/span>
	需要平场复消色差物镛�/span>
相机	支持C接口的高灵敏度sCMOS和EMCCD
	内置光学完成相机聚焦� 无需移动相机或转盗�/span>
显卡要求	GPU显卡/CUDA规格: 5.0/5.2版本& GPU显存: 4 GB或以三�/span>