产品概述

光化学恶臭气体处理设备采用现代国际上二十世纪九十年代末先进的�?氧协同除臭技术，以特殊的设计、工艺和材料制造的高效率、高强度、长寿命的光化学装置为基础，这种技术综合利用了高强辐照场对恶臭物质的破坏作用和氧对恶臭物质的氧化去除作用来去除恶臭气体中的硫化氢、氨、甲硫醇等VOC(挥发性有机物)，并利用了氧在强辐照下分解所产生的活泼的次生氧化剂来氧化有害物质。辐照场和氧一道，存在着一个协同作用，这种协同作用使该技术对恶臭去除的速率得到7�?个数量级的增加，即反应速度增加千万至十亿倍、�/p>

本产品利用光化学氧化的作用，很多用一般方法难以处理的恶臭污染物可以在较短的时间内得以彻底降解。裂解恶臭气体如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯， VOC类，苯、甲苯、二甲苯等、�br/> 硫化氢等恶臭气体在光化学处理设备中迅速发生光化学反应，转化为无臭无害的物质，从而使臭味得到很好的去除、�br/>1．硫化氢（H2S）的光化学反应过程如下：
O3 + hν ---� O2 + ·O
·O + H2O ---� 2·OH
·O + O2 ---� O3
H2S + O3 + hν ---� S2-+H2O+O2
硫化氢分子吸收来自辐照光量子的辐射能时，如果所吸收的能量大于等于并匹配键的离解能，则发生键的断裂，产生原子或自由基。硫化氢反应产生硫离子，从而使恶臭味消失。硫离子还可以在环境中继续进行反应，生成SO2-4、�br/>2� 氨气(NH3)的光化学降解涉及以下光化学反应：
氨发生初级光化学反应后的分子或者自由基吸收辐射后继续发生化学变化，
产生的产物能够进一步参与次级化学过程、�br/>①触发反库�br/>O3+hν ---� O2+·O
O2+hν ---� ·O +·O
NH3+hν ---� ·NH+2·H
O3+OH- ---� ·HO2+·O2-
·HO2 ---� ·O2-+H+
②传递过稊�br/>·O+H2O ---� 2·OH
·O+ O2 ---� O3
·O2-+ O3 ---� ·O3- +O2
·O3- + H+ ---� ·HO3
2·NH ---� N2+2·H
③终止反库�br/>2·NH+·O ---� N2+H2O
3 甲硫醇（CH3SH（�br/>甲硫醇的光化学反应和硫化氢的类似，同样是因为HS-结构型式的破坏而失
去臭味、�br/>O3+hν ---� O2+·O
·O+H2O ---� 2·OH