F10-HC薄膜厚度测量�?/span>

**有价格优势的先进薄膜测量系统

�?span>F20平台为基础所发展皃�span>F10-HC薄膜测量系统，能够快速的分析薄膜 的反射光谱资料并提供测量厚度，加三�span>F10-HC软件特有的先进模拟演算法�?*设计，能够在厚膜中测量单层与多层(例如：底漆或硬涂层等)、�/p>

前所未见的简易操作界靡�/span>

现在，具有新样板模式功能皃�span>F10-HC将更容易使用，这个功能允许用户汇入样品的影像(请参考下顴�span>)，并直接在影像上定义测量位置。系统会自动通知使用者本次测量结果是否有效，并将测量的结果显示在汇入的影像上让用户分析、�/p>

不需要手动基准校止�/span>

F10-HC现在能够执行自动化基准矫正以及设置自己的积分时间这个创新的方法不需要频繁的执行基准矫正就可以让使用者立即的执行样本的测� 、�/p>

背面反射干扰

背面反射干扰对厚度测量而言是一个光学技术的挑战，具月�span>F10-HC系统的独特接触式探头能将背面反射干扰的影响zui小化，使用者能以较高的精zhun度来测量涂层厚度、�/p>

选择Filmetrics的优劾�/span>

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