项目

技术指栆�/strong>

仪器型号

EMPro31

激光波镾�/p>

632.8nm (He-Ne Laser)

＇�sup>1（�/sup>膜层厚度精度

0.01nm (对于平面Si基底�?00nm的SiO₂膜层)

＇�sup>1（�/sup>折射率精�?/p>

1x10^-4(对于Si基底�?00nm的SiO₂膜层)

单次测量时间

与测量设置相关，典型0.6s

结构

PSCA�?#916;�?���?80��附近时也具有极高的准确度（�/p>

激光光束直徃�/p>

1mm

入射角度

40��-90��可手动调节，步进5��

样品方位调整

• Z轴高度调节：��6.5mm
• 二维俯仰调节�?#177;4��
• 样品对准：光学自准直和显微对准系绞�/li>

样品台尺寷�/p>

平面样品直径可达��170mm

**的膜层范図�/p>

• 透明薄膜可达4000nm
• 吸收薄膜则与材料性质相关

**外形尺寸

887 x 332 x 552mm (入射角为90?�?

仪器重量（净重）

25Kg

选配仵�/p>

• 水平XY轴调节平移台
• 真空吸附泴�/li>

软件

ETEM软件９�/p>

• 中英文界面可选；
• l多个预设项目供快捷操作使用；
• l单角度测�?多角度测量操作和数据拟合：�/li>
• 方便的数据显示、编辑和输出
• 丰富的模型和材料数据库支�?/li>