EM13LD系列采用了量拓科技多项**技术、�/div>

特点９�/strong>

• 次纳米的高灵敏度

  国际先进的采样方法、稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量极薄纳米薄膜，膜厚精度可达�?.5nm、�/div>

• 3秒的快速测野�/strong>

  国际水准的仪器设计，在保证精度和准确度的同时，可�?秒内快速完成一次测量，可对纳米膜层生长过程进行测量、�/div>

• 简单方便的仪器操作

  用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出。丰富的模型库、材料库方便用户进行高级测量设置、�/div>

应用９�/strong>

• EM13LD系列适合于普通精度要求的科研和工业环境中的新品研发或质量控制、�/li>
• EM13LD系列可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k、�/li>
• EM13LD可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）、�/li>

技术指栆�

项目	技术指栆�/span>
仪器型号	EM13 LD/635 (或其它选定波长)
激光波镾�/span>	635 nm (或其它选定波长，高稳定半导体激光器)
膜厚测量重复�?sup>＇�span>1（�/span>	0.5nm (对于平面Si基底�?00nm的SiO2膜层)
折射率测量重复�?sup>＇�span>1（�/span>	5x10-3(对于平面Si基底�?00nm的SiO2膜层)
单次测量时间	与测量设置相关，典型3s
**的膜层范図�/span>	透明薄膜可达1000nm 吸收薄膜则与材料性质相关
光学结构	PSCA�?#916;�?span>0���?80��附近时也具有极高的准确度（�/span>
激光光束直徃�/span>	2mm
入射角度	40��-90��可手动调节，步进5��
样品方位调整	Z轴高度调节：��6.5mm 二维俯仰调节�?#177;4�� 样品对准：光学自准直和显微对准系绞�/span>
样品台尺寷�/span>	平面样品直径可达��170mm
**外形尺寸	887 x 332 x 552mm (入射角为90?�?
仪器重量（净重）	25Kg
选配仵�/span>	水平XY轴调节平移台＋�/span>真空吸附泴�/span>
软件(ETEM)	* 中英文界面可逈�/span> * 多个预设项目供快捷操作使�?/span> * 单角度测野�span>/多角度测量操作和数据拟合 * 方便的数据显示、编辑和输出 * 丰富的模型和材料数据库支�?/span>

• 稳定性的半导体激光光源、先进的采样方法，保证了稳定性和准确�
• 高精度的光学自准直系统，保证了快速、高精度的样品方位对�
• 稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测�
• 分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和**厚度的测�
• 一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空�
• 一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使�

可选配件：

• NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片
• NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标牆�/span>
• VP01真空吸附泴�/span>
• VP02真空吸附泴�/span>
• 样品江�/span>