日立科学仪器(北京)有限公司
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日立高新离子研磨装置IM4000
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日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器!

  • 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 (/strong>皃strong>混合模式带有两种研磨配置9/p>

    断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面以下结构高分辨成像、/p>

    平面研磨:将样品表面均匀研磨5平方毫米,从不同角度有选择地研磨,以便突出样品的表面特性、/p>

  • 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 (/strong>皃strong>高通量能提高加工效率:

    与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间、/p>

    ?*加工率:硅元素为300微米/小时 加工时间减少?6%、/p>

  • 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 (/strong>皃strong>可拆卸样品台装置9/strong>

    为便于样品设置和定义研磨边缘,可将样品台装置拆卸、/p>

特点

  • 混合模式:两种研磨配?/p>

    断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面高分辨观察

    平面研磨:不同角度有选择地,大面积,均匀地研? mm的平面,以突显样品的表面特?/p>

  • 高效:提高加工效玆/p>

    与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间

    (**加工速度:硅材质?00 m/h - 加工时间减少?6%)

  • 可拆卸式样品台:

    为便于样品设置和边缘研磨,样品台设计为可拆卸垊/p>

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