EMU-120/65是一款能够兼顾高通光量、高分辨率和宽光谱测量的中阶梯光栅光谱仪，采用数值孔径F/3的光学设计，波长范围190-1100nm，分辨力60�?00�?#955;/FWHM），并获得美�?*保护。EMU-120/65中阶梯光栅光谱仪是LIBS、拉曼、OES/AES、光致发光等测量的理想工具，相比F/10中阶梯光栅光谱仪，灵敏度提高10倍以上、�/span>

EMU-120/65的另一大优势可以选用EMCCD相机，相比于ICCD相机具有更高的量子效率、分辨率和帧频，而且EMCCD相机不会轻易被强光损坏，对使用条件的要求不高、�/span>

此外，超低杂散光的光学设计加上软件控制的杂散光去除算法，使得EMU-120/65成为一款针对吸收光谱测量非常强大的仪器、�/span>

产品特点９�/span>

- 高通光量F/3

- 光谱分辨劚�/span>60�?00＇�/span>��/FWHM（�/span>

-宽光谱范図�/span>190-1100nm（可逈�/span>400-1700nm（�/span>

-无需机械扫描，一次曝光获得全光谱

-用户可自行更换光栅和入射狭缝，灵活调整通光量和分辨玆�/span>

光谱分辨劚�/strong>

EMU-120/65**的光学设计实现了单个像素的分辨力。能够清晰分辨汞Hg的双�?13.155nm�?13.184nm。每个峰对应一个CCD像素宽度�?微米），FWHM�?.0049nm ，分辨力63�?00、�/span>

通光野�/span>/收光效率

下图是EMU中阶梯光栅光谱仪（蓝色）和SE 200中阶梯光栅光谱仪（红色）测量�?卤钨灯的光谱对比，其中EMU数值孔径F/3，SE 200数值孔径F/10，两台光谱仪采用相同的光栅、相机和狭缝、�/span>

下图是铁元素Fe的LIBS光谱对比，EMU中阶梯光栅光谱仪搭配EMCCD（蓝色），SE 200中阶梯光栅光谱仪搭配ICCD（红色）、�/span>

杂散光和散射先�/span>

下图的过度曝光的HeNe激光线显示了主要是由光栅引起的小角度散射。散射光被测量为HeNe峰值强度的一部分，并且它在距离峰倻�/span>1纳米处下降到CCD动态范围极限以下、�/span>EMU-120/65旨在* 大限度地减少受散射影响区域的杂散光、�/span>

产品指标９�/span>

数值孔徃�/span>	F/3
焦长	120mm
放大玆�/span>	0.54
波长范围	190-1100nm
散射先�/span>	2.0 x 10-5@ 1nm HeNe激先�/span>
杂散先�/span>	2.0 x 10-6
光纤输入	SMA接头
入射狭缝	用户可以自行更换不同规格的狭缜�/span> 狭缝宽度8-128微米，狭缝高�?/span>12-128微米
光谱分辨劚�/span>	用户可以自行更换不同型号的光栅，不同型号对应不同的分辨力R HT Series:up to R = 9�?00 HR Series:up to R = 12�?00 UV Series:up to R = 30�?00 IS Series:up to R = 40�?00 IX Series:up to R = 60�?00