使用sensofar有技术开发的Neox光学轮廓仪，集成了共聚焦计数和干涉测量技术，并具有薄膜测量能力，该系统可以用于标准的明场彩色显微成像，共焦成像，三维共焦建模＋�/span>PSI�?/span>VSI及高分辨率薄膜厚度测量、�/span>

产品特点９�/span>

3D光学轮廓显微镛�/span>使用Sensofar有技术开发的neox光学轮廓仪，其共聚焦部分的主要优点是有着极高发光效率的照明硬件和高对比度算法。这些特点使系统成为测量有着陡峭斜面、粗糙的、反光表面和含有异种材料样品的理想设备。高品质干涉光学系统和集成压电扫描器是干涉轮廓仪部分的关键。这项技术对于测量非常光滑至适度粗糙的表面比较理想。这些技术的组合丹�span>neox轮廓仪提供了无限宽广的应用领域、�/span>

可用于标准的明场彩色显微成像、共焦成像、三维共焦建模�?span>PSI�?span>VSI及高分辨率薄膜厚度测量。没有移动部件使其拥有坚固而紧凑的设计，同时也使得该探头适合很多OEM应用。极其简单的、符合人体工程学的软件界面使用户获得非常快的测量速度，只需方便地切换适当的物镜，调焦，并选择适当的采集模式即可、�/span>

产品功能９�/span>

※共聚焦(Confocal Profiling)　　共聚焦轮廓仪可以测量较光滑或非常粗糙的表面高度。借助消除虚焦部分光线的共焦成像系统，可提供高对比度的图像。籍由表面的垂直扫描，物镜的焦点扫过表面上的每一个点，以此找出每个像素位置的对应高度(即共聚焦图像)、�/span>　　共聚焦轮廓仪可以由其光学组件实现超高的水平解析度，空间采样可以减小到0.10��m，这是一些重要尺寸测量的理想选择。高数值孔徃�span>NA(0.95)和放大倍率(150X咋�span>200X)的物镜可测量斜率超过70��的光滑表面、�span>neox具有极高的光效，共聚焦算法可提供纳米级的垂直方向重复性。超长工作距禺�span>(SLWD)可测量高宽比较大、形状较陡的样品、�/span>

※干消�span>(Interferometry)

◎�span> PSI模式(PSI Profiling)　　相位差干涉仪(Phase Shift Interferometers)可以亚纳米级的分辨率测量非常光滑与和连续的表面高度。必须准确对焦在样品上，并进行多步垂直扫描，步长是波长的精确的分数、�span>PSI算法借助适当的程序将表面相位图转换为样品高度分布国�/span>、�/span>　　PSI模式可在所有的数值孔徃�span>(NA)下提供亚纳米级的垂直分辨率。放大倍率较小旵�span>(2.5X)可以测量较大视场范围，并具有同样的垂直分辨率。但是光波相干长度使其测量范围限制在微米级、�span>PSI算法佾�span>neox得到纳米尺度的形态特征，并以亚纳米尺度对超平滑的表面纹理参数作出评估�◎�span> VSI模式(VSI Profiling)　　 白光干涉�?span> (White-Light Vertical Scanning Interferometers)可用于测量光滑表面或适度粗糙表面的高度。当样品表面各个点处于焦点位置时可得到ZUI大干涉条纹对比度。多步垂直扫描样品，表面上的每一个点会通过对焦点，通过检测干涉条纹峰值得到各像素位置的高度、�/span>　　VSI模式可在所有的数值孔徃�span>(NA)下提供纳米级垂直分辨率、�span>VSI算法佾�span>neox在各放大倍率下得到具有相同垂直分辨率的形态特征。其测量范围在理论上是无限的，尽管在实践中其将受限于物镜实际工作距离。扫描速度和数据采集速率可以非常快，当然这会导致一定程度垂直分辨率损失、�/span>

※薄膜测野�span> (Thin Film)　　光谱反射法是薄膜测量的方法之一，因为它准确、无损、迅速且无需制备样品。测量时，白光照射到样品表面，并将在膜层中的不同界面反射，并发生干涉和叠加效应。结果，反射光强度将显示出波长变化，这种变化取决于薄膜结构不同层面的厚度和折射率。软件将测得的真实光谱同模拟光谱进行比较拟合，并不断优化厚度值，直到实现匹配、�/span>　　Neox也可用作高分辨率的薄膜测量系统，它适用于单层箔，膜或基板上的单层薄膜，而且还可以处理更复杂结构(ZUI高可至基板上10层薄膛�span>)。可在一秒内测量仍�span>10nm�?span>20��m的透明薄膜，厚度分辨率0.1 nm，横向分辨率辽�span>5��m、�/span>使用Sensofar有技术开发的neox光学轮廓仪，其共聚焦部分的主要优点是有着极高发光效率的照明硬件和高对比度算法。这些特点使系统成为测量有着陡峭斜面、粗糙的、反光表面和含有异种材料样品的理想设备。高品质干涉光学系统和集成压电扫描器是干涉轮廓仪部分的关键。这项技术对于测量非常光滑至适度粗糙的表面比较理想。这些技术的组合丹�span>neox轮廓仪提供了无限宽广的应用领域、�/span>可用于标准的明场彩色显微成像、共焦成像、三维共焦建模�?span>PSI�?span>VSI及高分辨率薄膜厚度测量。没有移动部件使其拥有坚固而紧凑的设计，同时也使得该探头适合很多OEM应用。极其简单的、符合人体工程学的软件界面使用户获得非常快的测量速度，只需方便地切换适当的物镜，调焦，并选择适当的采集模式即可、�/span>特点９�/span>� 微显示共聚焦扫描目前的共聚焦显微镜都使用有着可移动机械装置的镜面扫描头，这会限制其使用寿命，并且在高倍率时降低像素抖动优化效果。对于共焦扫描，neox使用基于微型显示器的Sensofar有技术。该微型显示器基于铁电液晶硅(FLCoS)，一种没有运动部件的快速切换装置，使共焦图像的扫描更快速、稳定并拥有无限的寿命、�/span>� 彩色CCD摄像夳�/span>Neox使用一个高速高分辨率的黑白CCD摄像头为系统计量探头。另一个彩色摄像头可用于明场表面观察。这样使得它很容易找出所分析样品的特点。此外，地貌测量功能可得到全聚焦彩色图像。该系统在垂直扫描过程中记录图像合焦位置像素，并和其Z轴位置匹配从而得到全聚焦彩色图像，并以此来创建出色的三维模型、�/span>� 物镜Neox使用皃�span>CFI60 Nikon物镜，在吃�span>NA时都有ZUI大的工作距离。可选用的物镜超迆�span>50种，每一款都可对应某种特别应用：可用于共聚焦成像和建模的较高NA，倍率范围2.5X臲�span>200X，超长工作距离，特长工作距离及浸水物镜；带调焦环的物镜可�?厙�span>2mm范围的透明介质对焦：�span>2.5X臲�span>100X带参考镜校正及倾斜的物镜、�/span>� 双垂直扫描器双垂直扫描器包括一个电动平台和压电扫描器，以获得ZUI高的扫描范围和ZUI高的测量精度及重复精度。高定位精度的线性平台行稊�span>40mm�?小步进可辽�span>10nm，用于共聚焦扫描非常理想。集成的压电扫描器zui高扫描范図�span>200��m，压电电阻传感器高定位分辨率0.2nm，全行程精度1nm。现有的其它扫描平台使用光学编码器，精度仄�span>30nm且不确定，限制了系统的精确度和重复性。结合线性平台和压电扫描器的独特设计，使Neox�?span>0.1纳米至几毫米测量范围内拥有业界的精度，线性和重复性、�/span>� 集成反射光谱�?/span>共聚焦及干扰法测量薄膜厚度的实际限制约为1��m单层膜、�span>Neox集成了一个反射光谱仪，通过光纤进行薄膜的测量，厚度范围�?span>10nm，ZUI高可辽�span>10层膜。该光纤通过显微目镜成像，因此，薄膜测量点尺�?小可辽�span>5微米。测量使用集成的LED光源，可提供样品以及薄膜测量的实时明场影像、�/span>� 友�span>LED照明光源内置了两个高功率LED，其中白先�span>LED用于彩色明场观察，薄膜测量，VSI咋�span>ePSI。另一个蓝先�span>LED用于高分辨率共聚焦影像和PSI。蓝先�span>LED较短的波长可有效提升水平分辨率至0.15��m(L&S)，并改善PSI噪声丹�span>0.01nm垂直分辨率、�/span>� 高速度(12.5 fps共聚焦帧速率)基于FLCoS微型显示器的高速转换速度和特有的快速共聚焦算法，本设备可达�?span>12.5�?span>/秒的共聚焦图像帧率，垂直3D扫描达到8屁�span>/秒，这意味着3D共焦测量扫描速度范围丹�span>0.5臲�span>350��m/s。干涉扫描速度丹�span>50 fps，即垂直扫描速度高达800��m/s。一次典型的测量时长，其中包括扫描后的运算，通常小于5秒、�/span>　　光谱反射法是薄膜测量的方法之一，因为它准确、无损、迅速且无需制备样品。测量时，白光照射到样品表面，并将在膜层中的不同界面反射，并发生干涉和叠加效应。结果，反射光强度将显示出波长变化，这种变化取决于薄膜结构不同层面的厚度和折射率。软件将测得的真实光谱同模拟光谱进行比较拟合，并不断优化厚度值，直到实现匹配、�/span>　　Neox也可用作高分辨率的薄膜测量系统，它适用于单层箔，膜或基板上的单层薄膜，而且还可以处理更复杂结构(ZUI高可至基板上10层薄膛�span>)。可在一秒内测量仍�span>10nm�?span>20��m的透明薄膜，厚度分辨率0.1 nm，横向分辨率辽�span>5��m、�/span>